IBM e AMD hanno realizzato una nuova tecnologia di costruzione dei chip,chiamata "dual-stress strained silicon",che verrà impiegata nella realizzazione del Cell.
Tale tecnologia permette un'aumento delle performance dei transistor del 12 %,rispetto a quella impiegata attualmente.
Eccovi un lungo articolo in inglese per chi avesse voglia di leggerselo
http://www.reuters.com/newsArticle.j...technologyNews